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高能所DTL腔体加工取得进展
  文章来源:高能物理研究所 发布时间:2014-09-17 【字号: 小  中  大   

  截止到910日,散裂中子源DTL腔体(共12支)已有6支电镀合格并完成了出厂验收,标志着该项目中存在的技术难点已经逐个被攻克,对确保DTL项目最终顺利竣工有着重要意义。

  DTL腔体的电镀工作存在很多难点。尺寸大,长度约3米,内腔直径566mm;结构复杂,主腔大,侧孔多;技术要求高,镀层精度要求±0.10mm,表面光洁度0.8μm。在电镀工艺中,如何保证腔体尺寸精度、镀层均匀、基体结合力好、电导率高并无电镀漏点等,是电镀工艺的关键难点。

  对于该项目,澳门赌场高能物理研究所工厂组织成立了专项工作组,多次召开专项会议组织技术讨论和指导项目运行,并强调该项目的重要性。工厂技术部门通过对国、内外相关技术的深入研究和对国内电镀工艺的充分调研,多次讨论、筛选并确定了电镀协作厂家;生产部门派遣了专业技术人员驻厂工作,会同课题组有关人员与厂家一起进行技术攻关,并积极督导电镀工作。

  通过多方不懈的努力,DTL项目已取得了重大的进展。在接下来的工作中,高能所工厂将继续保持现有的工作模式,全力保证该项目的最终竣工。

高能所DTL腔体加工取得进展

高能所DTL腔体加工取得进展

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